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用于间隙流控制的涡流室

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010522411.9
  • IPC分类号:F01D11/00;F01D5/14;F01D25/24;F01D5/02;F01D9/02
  • 申请日期:
    2010-10-14
  • 申请人:
    通用电气公司
著录项信息
专利名称用于间隙流控制的涡流室
申请号CN201010522411.9申请日期2010-10-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-05-04公开/公告号CN102042043A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号F01D11/00IPC分类号F;0;1;D;1;1;/;0;0;;;F;0;1;D;5;/;1;4;;;F;0;1;D;2;5;/;2;4;;;F;0;1;D;5;/;0;2;;;F;0;1;D;9;/;0;2查看分类表>
申请人通用电气公司申请人地址
美国纽约州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人通用电气公司当前权利人通用电气公司
发明人J·约翰;S·K·贾因;S·K·赖
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人严志军;曹若
摘要
本发明涉及用于间隙流控制的涡流室,具体而言,提供了一种装置(10),并且该装置包括:第一部件(20),其带有从其表面(21)延伸的流转向部件(25);以及设置在第一部件的附近的第二部件(30),其中,在第二部件的表面(31)和流转向部件的远端(26)之间限定了间隙区域A,从而使得在第一和第二部件(20,30)的表面(21,31)之间形成流体路径(40),流体(50)沿着该流体路径(40)以自上游区段(60)且通过间隙区域A的方式流动。第二部件形成为在上游区段(60)处限定双涡流室(70,80),在双涡流室中,流体在被容许流过间隙区域A之前被引导成以涡流模式(75,85)流动。

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