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一种基于硒化物/硫化物异质结的柔性光电探测器的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110253989.7
  • IPC分类号:H01L31/0203;H01L31/032;H01L31/109;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2021-03-04
  • 申请人:
    电子科技大学
著录项信息
专利名称一种基于硒化物/硫化物异质结的柔性光电探测器的制备方法
申请号CN202110253989.7申请日期2021-03-04
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-06-25公开/公告号CN113035965A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0203IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;2;0;3;;;H;0;1;L;3;1;/;0;3;2;;;H;0;1;L;3;1;/;1;0;9;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;B;8;2;Y;3;0;/;0;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人电子科技大学申请人地址
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人电子科技大学当前权利人电子科技大学
发明人黄文;唐雨晴;龚天巡;林媛;张晓升
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种基于硒化物/硫化物异质结的柔性光电探测器及其制备方法,该传感器采用PI薄膜作为基底,ITO作为电极,禁带宽度为1.2‑2.4eV的P型硒化物(如禁带宽度约为2.1eV的GaSe)和禁带宽度为1.8‑2.2eV的n型硫化物(如禁带宽度约为1.8eV的MoS2)形成的异质结作为功能层。器件制备流程为:首先通过光刻技术和ITO湿法刻蚀得到ITO电极,再采用机械剥离的方式得到硒化物和硫化物的亚微米薄片,并精确对准转移到基于PI基底的ITO电极上,形成超薄二维半导体异质结(各层厚度在10nm‑30nm之间),结区面积在1×102‑2.5×103平方微米之间。该种制备方法方便环保且成本低,且基于该方法制备的硒化物/硫化物异质结光电探测器具有良好的弯曲性,相较于刚性光电探测器可应用于更多的场景,且得益于硒化物/硫化物异质结的材料特性,此类光电探测器具有良好的光电探测性能,可实现良好的光电探测效果。

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