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真空气相沉积系统以及制造有机电致发光元件的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110339529.2
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2011-11-01
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称真空气相沉积系统以及制造有机电致发光元件的方法
申请号CN201110339529.2申请日期2011-11-01
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2012-07-11公开/公告号CN102560364A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人福田直人;中川善之;中野真吾
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人柳爱国
摘要
这里提供了一种真空气相沉积系统,它能够精确测量气相沉积速率,并能够以更高精度来控制膜厚度。真空气相沉积系统包括:真空腔室;基片保持机构;气相沉积源;用于监测的膜厚度传感器;控制系统,该控制系统包括温度控制器和膜厚度控制器;以及用于校准的膜厚度传感器,其中,从用于监测的膜厚度传感器和用于校准的膜厚度传感器中的要提高测量精度的一个膜厚度传感器至气相沉积源的开口中心的距离小于从另一膜厚度传感器至气相沉积源的开口中心的距离。还提供了一种使用这种真空沉积系统制造有机电致发光元件的方法。

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