用于优化干涉仪的光学性能的方法及设备

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专利名称	用于优化干涉仪的光学性能的方法及设备
申请号	CN201911058419.1	申请日期	2017-11-08
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-02-25	公开/公告号	CN110836633A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01B9/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01B 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 G01B9/00 组中所列的及以采用光学测量方法为其特征的仪器（用于测量特定的参量的装置入G01B 11/00）〔2〕 G01B9/02 干涉仪	IPC分类号	G;0;1;B;9;/;0;2查看分类表>
申请人	齐戈股份有限公司	申请人地址	美国康涅狄格州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	齐戈股份有限公司	当前权利人	齐戈股份有限公司
发明人	L.L.德克
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	李芳华

摘要

一种用干涉仪测量测试对象的性质的方法，包含：a)提供校准信息，校准信息将干涉仪的对焦设定相关到测试对象相对于干涉仪的参考表面的位置；b)确定测试对象相对于参考表面的位置；以及c)使用干涉仪来收集测试对象的干涉仪图像，以用于测量测试对象的性质。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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