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珀耳帖模块及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200410104765.6
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L35/34
  • 申请日期:
    2004-10-28
  • 申请人:
    雅马哈株式会社
著录项信息
专利名称珀耳帖模块及其制造方法
申请号CN200410104765.6申请日期2004-10-28
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-05-25公开/公告号CN1619423
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;3;5;/;3;4查看分类表>
申请人雅马哈株式会社申请人地址
日本静冈县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人雅马哈株式会社当前权利人雅马哈株式会社
发明人铃木幸俊
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陶凤波;侯宇
摘要
一种珀耳帖模块,它包括排列在衬底之间并与电极相连的多个热电半导体元件。它由4个步骤制造,即,涂覆步骤,在这一步骤中把抗蚀剂涂覆到衬底上;空洞形成步骤,在这一步中将抗蚀剂变形成具有格子状形状和多个空洞的抗蚀剂图案;电极形成步骤,在这一步中电极在抗蚀剂图案的空洞中形成;和去除步骤,在这一步中将抗蚀剂图案从衬底上去除,其中抗蚀剂是由包括丙烯酸类聚合物,多功能团丙烯酸酯,和光敏剂的丙烯酸抗蚀剂制成的。电极通过使用具有空洞的抗蚀剂图案以一种方式形成和排列,使得用电极厚度D和电极间间隔S确定的高宽比D/S设定为1.25或更大。

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