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用于预测要光刻在晶片上的集成电路片段的功能的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610084813.9
IPC分类号：G03F7/20;G06F17/50;H01L21/00
申请日期：
2006-05-18
申请人：
国际商业机器公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于预测要光刻在晶片上的集成电路片段的功能的方法
申请号	CN200610084813.9	申请日期	2006-05-18
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2006-11-29	公开/公告号	CN1869822
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;6;F;1;7;/;5;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	国际商业机器公司	申请人地址	开曼群岛大开曼岛变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	格芯公司	当前权利人	格芯公司
发明人	约安纳·格劳尔;黎家辉;拉马·N·辛
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	黄小临;王志森

摘要

一种用于预测要光刻在晶片上的集成电路片段的功能的方法。最初，提供集成电路的二维设计，所述集成电路包括具有临界宽度的集成电路片段；并且，模拟所述临界宽度集成电路片段的二维光刻图像。所述方法随后包括：确定被设计的临界宽度集成电路片段对所模拟的光刻临界宽度集成电路片段的周长或面积的比率；并且，基于所述周长或面积的比率预测在光刻后的临界宽度集成电路片段的功能。

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