印泥装饰品（三）外观设计专利
申请号：CN200430019795.8
LOC分类号:
IPC结构图谱：
- G物理
- G0仪器
- G03摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕
- G03F图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
- G03F7/00图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕
- G03F7/004感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕
- G03F7/039可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F 7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F 7/023）〔5〕
