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利用单独的参考光束层的光学存储介质

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200580048077.5
  • IPC分类号:G11B7/013;G11B7/24;G11B7/258;G11B7/14
  • 申请日期:
    2005-12-07
  • 申请人:
    皇家飞利浦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称利用单独的参考光束层的光学存储介质
申请号CN200580048077.5申请日期2005-12-07
法律状态放弃专利权申报国家中国
公开/公告日2008-02-06公开/公告号CN101120407
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11B7/013IPC分类号G;1;1;B;7;/;0;1;3;;;G;1;1;B;7;/;2;4;;;G;1;1;B;7;/;2;5;8;;;G;1;1;B;7;/;1;4查看分类表>
申请人皇家飞利浦电子股份有限公司申请人地址
荷兰艾恩德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人皇家飞利浦电子股份有限公司当前权利人皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人J·H·M·奈詹
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人李静岚;刘红
摘要
本发明涉及一种将由具有预定波长的聚焦的读取光束读出的数据介质。该数据介质实现生成参考光束的新概念,这是通过包括一个参考光束界面,其在撞击读取光束的传播方向上被设置在具有坑-岸结构的数据层的前面并且对于该读取光束是部分反射的,而所述坑和岸界面部分对于该读取光束则是完全反射的。或者,该参考层被设置在第一和第二反射界面部分的后面并且对于该读取光束是完全反射的,而所述坑和岸界面部分对于该读取光束则是部分反射的。在本发明的数据介质中,数目介于5到20之间的通道比特单元被包含在参考区域A-ef内,该参考区域由读取光束波长WL与对所述读取光束进行聚焦的光学系统的数值孔径NA之间的比值的平方定义。所述坑-岸结构的所有坑界面部分的面积总和与所有岸界面部分的面积总和之间的比值介于0.4到0.6之间。

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