金属制品及其制备方法和手机后壳

发明专利有效专利

申请号：
CN201810723594.7
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;H04M1/18;H04M1/02
申请日期：
2018-07-04
申请人：
比亚迪股份有限公司

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著录项信息

专利名称	金属制品及其制备方法和手机后壳
申请号	CN201810723594.7	申请日期	2018-07-04
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-01-14	公开/公告号	CN110684954A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;1;6;;;C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;H;0;4;M;1;/;1;8;;;H;0;4;M;1;/;0;2查看分类表>
申请人	比亚迪股份有限公司	申请人地址	广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	比亚迪股份有限公司	当前权利人	比亚迪股份有限公司
发明人	刘玉阳;赵长涛
代理机构	北京润平知识产权代理有限公司	代理人	刘依云;乔雪微

摘要

本发明涉及多膜层材料领域，公开了一种金属制品及其制备方法和手机后壳，其中，该金属制品由基材和在所述基材的表面依次沉积的金属层、承载层和类金刚石薄膜层组成；基材为铝、铝合金、钛合金或铬合金；金属层为Cr层、Ti层、Al层或Nb层；承载层为CrCN层、TiCN层或AlCN层。采用本发明的金属制品能够使类金刚石薄膜层与基材结合力增强，并且仍然可以提高基材表面的物理力学性能。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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