一种离子推力器放电室镀膜蓄留结构

发明专利有效专利

申请号：
CN202110186419.0
IPC分类号：C23C14/34;F03H1/00;B33Y80/00;C23C14/02;C23C14/14
申请日期：
2021-02-09
申请人：
兰州空间技术物理研究所

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著录项信息

专利名称	一种离子推力器放电室镀膜蓄留结构
申请号	CN202110186419.0	申请日期	2021-02-09
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-05-14	公开/公告号	CN112795879A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;F;0;3;H;1;/;0;0;;;B;3;3;Y;8;0;/;0;0;;;C;2;3;C;1;4;/;0;2;;;C;2;3;C;1;4;/;1;4查看分类表>
申请人	兰州空间技术物理研究所	申请人地址	甘肃省兰州市城关区渭源路97号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	兰州空间技术物理研究所	当前权利人	兰州空间技术物理研究所
发明人	孟伟;赵以德;耿海;李娟;高俊;唐福俊;江豪成;吴辰宸;代鹏;李建鹏;颜能文
代理机构	北京亿次方科创知识产权代理有限公司	代理人	吕晓蓉

摘要

本申请涉及航天电推进技术领域，具体而言，涉及一种离子推力器放电室镀膜蓄留结构，对放电室表面进行纹理化处理，形成纹理化蓄留层，纹理化蓄留层设置在放电室阳极筒本体的内表面以及放电室屏栅筒本体的内表面。本发明结构设计简单，采用成熟的3D打印工艺一体成型，缩短了加工工序，简化了过程控制工序，降低了材料成本，能够有效降低离子推力器工作寿命末期放电室内溅射镀膜的脱落率，抑制了寿命末期的束流闪烁频次，提升离子电推系统寿命中后期的可靠性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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