基于UV曝光形成取向膜区域的方法及系统

发明专利无效专利

申请号：
CN201110357645.7
IPC分类号：G02F1/1337;G03F7/20
申请日期：
2011-11-14
申请人：
深圳市华星光电技术有限公司

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著录项信息

专利名称	基于UV曝光形成取向膜区域的方法及系统
申请号	CN201110357645.7	申请日期	2011-11-14
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2012-06-27	公开/公告号	CN102520551A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1337 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1337 液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;7;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	深圳市华星光电技术有限公司	申请人地址	广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳市华星光电技术有限公司	当前权利人	深圳市华星光电技术有限公司
发明人	宋玉
代理机构	深圳市世纪恒程知识产权代理事务所	代理人	胡海国

摘要

本发明公开一种基于UV曝光形成取向膜区域的方法及系统，其方法包括：在基板上涂布PI液并形成取向膜，取向膜覆盖基板上预设的取向膜区域；将根据预设的取向膜区域制作的掩膜板设置于取向膜上，使掩膜板遮蔽预设的取向膜区域；通过UV光曝光剥离基板上位于预设的取向膜区域以外的取向膜；撤去掩膜板，在预设的取向膜区域留下取向膜。本发明可以有效改善现有的取向膜列印机根据设计的取向膜区域规则涂布取向膜，在形成取向膜区域时产生印刷偏移、锯齿状的边缘不均以及膜厚不均区域等缺陷，提高了取向膜区域的定位精度以及取向膜的质量，进而提高液晶显示装置的图像质量特性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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