波导结构及其形成方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110260108.4
IPC分类号：G02B6/10;H04J14/02
申请日期：
2021-03-10
申请人：
台湾积体电路制造股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	波导结构及其形成方法
申请号	CN202110260108.4	申请日期	2021-03-10
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-26	公开/公告号	CN113703090A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B6/10 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B6/00 光导；包含光导和其他光学元件（如耦合器）的装置的结构零部件〔4，6〕 G02B6/10 光波导式的（G02B 6/02，G02B 6/24优先，用电、磁、电磁或电声装置进行光的控制入G02F 1/00；变换受调制光的调制入G02F 2/00；光学逻辑元件入G02F 3/00；光学模拟/数字变换器入G02F 7/00；使用电光元件的存储器入G11C 11/42；电波导管入H01P；通过光学装置传输信息的入H04B 10/00；多路系统入H04J 14/00）〔4，8〕	IPC分类号	G;0;2;B;6;/;1;0;;;H;0;4;J;1;4;/;0;2查看分类表>
申请人	台湾积体电路制造股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	台湾积体电路制造股份有限公司	当前权利人	台湾积体电路制造股份有限公司
发明人	陈焕能;郭丰维;徐敏翔;卓联洲;周淳朴;廖文翔
代理机构	北京律盟知识产权代理有限责任公司	代理人	李春秀

摘要

本发明实施例涉及一种波导结构及其形成方法。根据本发明的一些实施例，提供一种光学衰减结构。所述光学衰减结构包含衬底、波导、掺杂区、光学衰减部件及电介质层。所述波导在所述衬底上方延伸。所述掺杂区放置于所述衬底上方，且包含第一掺杂区、与所述第一掺杂区相对且通过所述波导与所述第一掺杂区分离的第二掺杂区、在所述衬底上方及在所述第一掺杂区中延伸的第一电极及在所述衬底上方及在所述第二掺杂区中延伸的第二电极。所述第一光学衰减部件与所述波导耦合且放置于所述波导与所述第一电极之间。所述电介质层放置于所述衬底上方且覆盖所述波导、所述掺杂区及所述第一光学衰减部件。

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