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存储器及其形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510271915.0
  • IPC分类号:H01L27/11521
  • 申请日期:
    2015-05-25
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称存储器及其形成方法
申请号CN201510271915.0申请日期2015-05-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-01-04公开/公告号CN106298674A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/11521
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IPC结构图谱:
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申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人代洪刚;李俊
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人高静;吴敏
摘要
本发明提供一种存储器及其形成方法,存储器的形成方法包括提供衬底;形成侧墙材料层;形成控制栅材料层;刻蚀控制栅材料层以形成控制栅;刻蚀部分位于衬底上的侧墙材料层,形成侧墙层;侧墙层位于衬底的部分的边缘具有缺口;形成填充缺口的绝缘填充层。存储器包括衬底;浮栅;位于浮栅上以及浮栅周围的部分衬底上的控制栅;位于浮栅和控制栅之间,以及衬底与控制栅之间的侧墙层;侧墙层位于衬底的部分的边缘具有缺口;填充侧墙层缺口的绝缘填充层。本发明的有益效果在于,在侧墙层的缺口处形成绝缘填充层,绝缘填充层能够填充缺口,进而可以较小发生电荷泄漏的几率,进而可以提升存储器的生产量率。

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