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LTPS薄膜晶体管制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510974854.4
  • IPC分类号:H01L21/336
  • 申请日期:
    2015-12-21
  • 申请人:
    武汉华星光电技术有限公司
著录项信息
专利名称LTPS薄膜晶体管制造方法
申请号CN201510974854.4申请日期2015-12-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-04-13公开/公告号CN105489499A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/336IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人武汉华星光电技术有限公司申请人地址
湖北省武汉市武汉东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉华星光电技术有限公司当前权利人武汉华星光电技术有限公司
发明人张占东
代理机构广州三环专利商标代理有限公司代理人郝传鑫;熊永强
摘要
本发明提供LTPS薄膜晶体管制造方法,包括,提供一基板,并在所述基板上形成缓冲层、多晶硅层、在所述多晶硅层的中间区域上通过图案化形成第一光阻层,并在多晶硅层的第一掺杂区注入第一离子;通过灰化工艺对所述第一光阻层进行图案化,使所述第一光阻层整体面积减小形成第二光阻层;其中,所述第二光阻层覆盖部分所述中间区域,使所述中间区域与两个所述第一掺杂区之间构成第二掺杂区;在两个所述第二掺杂区注入第二离子;在所述多晶硅层及裸露的缓冲层上形成第一绝缘层;在所述第一绝缘层上形成栅极;在所述栅极上形成第二绝缘层;在所述第二绝缘层上形成与所述第一掺杂区连接源极及漏极。整体工艺之采用五道光罩,简化加工工艺步骤。

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