一种掩膜版的制作方法及彩膜基板的制作工艺

发明专利有效专利

申请号：
CN202010986668.3
IPC分类号：G02F1/1335;G02F1/1339;G03F7/00
申请日期：
2020-09-18
申请人：
信利（仁寿）高端显示科技有限公司

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专利名称	一种掩膜版的制作方法及彩膜基板的制作工艺
申请号	CN202010986668.3	申请日期	2020-09-18
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-11-20	公开/公告号	CN111965887A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1335 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1335 与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器、反射器〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;5;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;9;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	信利（仁寿）高端显示科技有限公司	申请人地址	四川省眉山市仁寿县文林工业园区变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	信利（仁寿）高端显示科技有限公司	当前权利人	信利（仁寿）高端显示科技有限公司
发明人	吴杰明;黎源;张峰;李岩
代理机构	广州粤高专利商标代理有限公司	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种掩膜版的制作方法及彩膜基板的制作工艺，包括以下步骤在第一透明衬底基板的一侧面制作透过率为5‑15%的第一光阻层用于彩膜基板的遮光层制作；蚀刻第一光阻层形成黑矩阵层以预留第一通孔，第一通孔对应彩膜基板中彩色色阻层的位置；先在黑矩阵层上开第一全透孔，再在黑矩阵层的外表面制作透过率为15%‑40%的第二光阻层，用于彩膜基板的主柱状隔垫物和辅柱状隔垫物的制作；在第二光阻层和黑矩阵层上开第二全透孔用于彩膜基板的主柱状隔垫物的制作，这样利用一道掩膜版就可以同时制作彩膜基板上的主柱状隔垫物、辅柱状隔垫物和遮光层，有效降低了掩膜版的生产成本和减少了一道产品制程成本。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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