抛光设备

发明专利无效专利

申请号：
CN200510071629.6
IPC分类号：--
申请日期：
2005-03-31
申请人：
不二越机械工业株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	抛光设备
申请号	CN200510071629.6	申请日期	2005-03-31
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2005-10-19	公开/公告号	CN1683112
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	不二越机械工业株式会社	申请人地址	日本长野县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	不二越机械工业株式会社	当前权利人	不二越机械工业株式会社
发明人	宫小忠一;岸田敬实
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	顾峻峰

摘要

该抛光设备能够精确地控制抛光压力，准确地定位压力盘以及均匀地抛光工件。在该抛光设备中，固定盘包括用于将承压流体导入所述的第一流体腔并将抛光头部分压向下的第一压力装置；用于将承压流体导入所述的第二流体腔并将压力盘压向下的第二压力装置；和用于将承压流体导入所述的第三流体腔并将所述的工件压向下的第三压力装置。通过这一结构，将所述工件固定在弹性片元件的下侧，并通过抛光轮对工件的下表面进行抛光。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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