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光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200610071533.4
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/027
  • 申请日期:
    2006-03-28
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法
申请号CN200610071533.4申请日期2006-03-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2006-10-04公开/公告号CN1841208
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人J·-G·C·范德图恩;H·布特勒;H·H·M·科西;E·H·J·德拉贾;N·坦卡特;F·范德穆伦;M·J·H·弗兰坎;M·侯克斯;A·H·阿伦德斯;M·库帕卢斯
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
一种光刻装置,其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统,用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体,和位置控制装置,用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提供基底的位置量时,通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置,然后根据该期望位置定位流体供给系统。该位置量包括基底台的位置和/或旋转位置和/或基底高度的高度函数。

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