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表面处理的方法和系统

发明专利无效专利

申请号：
CN95118750.3
IPC分类号：--
申请日期：
1995-11-03
申请人：
株式会社日立制作所

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	表面处理的方法和系统
申请号	CN95118750.3	申请日期	1995-11-03
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	1996-10-02	公开/公告号	CN1132407
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	株式会社日立制作所	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社日立制作所	当前权利人	株式会社日立制作所
发明人	小藤直行;新井真;辻本和典;水谷巽;铃木敬三;水石贤一
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	丰迅

摘要

为了抑制由于电子遮蔽现象而引起的开槽、电荷聚集损伤、副沟和弯弓形，提供一种占空比等于或低于5%和重复频率等于或高于400KHz脉冲电压。因此，在衬底偏置中出现一个用于加速电子的周期，从而使电子遮蔽现象不出现。

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