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电子束物理气相沉积与熨压组合改善镍基高温合金涂层表面完整性的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201110460388.X
IPC分类号：C23C14/30;B23P9/02;B23P17/00
申请日期：
2011-12-31
申请人：
北京航空航天大学

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	电子束物理气相沉积与熨压组合改善镍基高温合金涂层表面完整性的方法
申请号	CN201110460388.X	申请日期	2011-12-31
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2012-06-27	公开/公告号	CN102517549A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/30 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕 C23C14/28 波能法或粒子辐射法（C23C 14/32至C23C 14/48优先）〔4〕 C23C14/30 电子轰击法〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;0;;;B;2;3;P;9;/;0;2;;;B;2;3;P;1;7;/;0;0查看分类表>
申请人	北京航空航天大学	申请人地址	北京市海淀区学院路37号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京航空航天大学	当前权利人	北京航空航天大学
发明人	骆红云;韩志远;郭洪波;彭徽;宫声凯;张峥
代理机构	北京永创新实专利事务所	代理人	李有浩

摘要

本发明公开了一种电子束物理气相沉积与熨压组合改善镍基高温合金涂层表面完整性的方法，该方法通过电子束物理气相沉积工艺在基体上制得涂层，然后通过熨压工艺对涂层表面进行降低粗糙度，提高表面致密度，减少气孔率的处理。经本发明方法制得的镍基高温合金涂层的抗氧化性明显提高。

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