使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201510096995.0
IPC分类号：G03F1/84;G03F7/20;G01N21/95
申请日期：
2004-07-02
申请人：
恪纳腾技术公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统
申请号	CN201510096995.0	申请日期	2004-07-02
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-06-10	公开/公告号	CN104698741A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/84 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/68 未包含在G03F 1/20至G03F 1/50组中的制备工艺〔2012.01〕 G03F1/82 辅助工艺，例如清洗〔2012.01〕 G03F1/84 检查〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;8;4;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;1;N;2;1;/;9;5查看分类表>
申请人	恪纳腾技术公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	恪纳腾技术公司	当前权利人	恪纳腾技术公司
发明人	保罗·弗兰克·马雷拉;沙伦·麦考利;埃利斯·张;威廉·沃尔克;詹姆斯·威利;斯特林·沃森;萨加尔·A·克卡尔;卡尔·赫斯
代理机构	北京律盟知识产权代理有限责任公司	代理人	张世俊

摘要

提供了一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图形。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版的数据分析检查晶片所产生的数据来检测晶片上的缺陷，代表掩模版的数据包括标识所述掩模版不同类型部分的标记物。再一种计算机实现的方法包括基于更改了晶片上形成的器件的特性的缺陷，确定用来处理晶片的制造工艺的性能。又一种计算机实现的方法包括基于检查晶片所产生的数据，更改或者模拟集成电路设计的一个或更多个特性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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