使用强制超薄膜旋转式处理法的微粒的制造方法

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专利名称	使用强制超薄膜旋转式处理法的微粒的制造方法
申请号	CN201110332896.X	申请日期	2008-07-04
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2012-06-27	公开/公告号	CN102516809A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	M技术株式会社	申请人地址	日本大阪变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	M技术株式会社	当前权利人	M技术株式会社
发明人	榎村真一
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	贾成功

摘要

本发明提供一种微粒的制造方法，其特征在于，通过在可接近·分离地相对地进行旋转的2个处理用面之间维持1mm以下的微小间隙、将以该微小间隔维持的2个处理用面之间作为被处理流动体的流路，形成被处理流动体的强制薄膜，在该强制薄膜中进行微粒的析出。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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