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单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510955723.1
IPC分类号：G03F7/039;C08F220/28;C08F220/32;C08F220/38;C07C69/533;C07C69/54
申请日期：
2015-12-18
申请人：
信越化学工业株式会社

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法
申请号	CN201510955723.1	申请日期	2015-12-18
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-06-29	公开/公告号	CN105717744A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/039 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/039 可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F 7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F 7/023）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;C;0;8;F;2;2;0;/;2;8;;;C;0;8;F;2;2;0;/;3;2;;;C;0;8;F;2;2;0;/;3;8;;;C;0;7;C;6;9;/;5;3;3;;;C;0;7;C;6;9;/;5;4查看分类表>
申请人	信越化学工业株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	信越化学工业株式会社	当前权利人	信越化学工业株式会社
发明人	提箸正义;长谷川幸士;片山和弘;畠山润
代理机构	中国贸促会专利商标事务所有限公司	代理人	杜丽利

摘要

提供具有多个叔醇羟基的单体。通过将该单体聚合而得到的有用的聚合物。由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。

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