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球体辐射局部镀膜装置

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN200520129906.X
  • IPC分类号:C23C14/22;C23C14/56
  • 申请日期:
    2005-10-17
  • 申请人:
    翔名科技股份有限公司;先宇科技有限公司
著录项信息
专利名称球体辐射局部镀膜装置
申请号CN200520129906.X申请日期2005-10-17
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/22IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;2;2;;;C;2;3;C;1;4;/;5;6查看分类表>
申请人翔名科技股份有限公司;先宇科技有限公司申请人地址
台湾省新竹市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人翔名科技股份有限公司,先宇科技有限公司当前权利人翔名科技股份有限公司,先宇科技有限公司
发明人朱源发;吴宗丰
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人周长兴
摘要
一种球体辐射局部镀膜装置,由一真空腔室、一旋转支撑件、复数个承盘、复数个基材整合体、与蒸镀源所共同组成。旋转支撑组件包含马达、支撑架,而基材整合体则包含具有孔洞及磁性的金属薄膜、被镀物、磁铁及夹具。本装置由于承盘深度略浅,盘面较大,可尽量放置于以蒸镀源为球心的球面上,以及在金属薄膜上选择性的开设不同孔洞以因应被镀物上不同电路的需求。因此不但可大幅缩短工艺的时间,且所镀的薄膜厚度均匀,不易变形。

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