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半导体衬底、半导体衬底的制备方法及三维封装方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710173095.7
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L21/00;H01L21/20;H01L21/265;H01L21/762;H01L21/84;H01L21/50;H01L21/60
  • 申请日期:
    2007-12-26
  • 申请人:
    上海新傲科技有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称半导体衬底、半导体衬底的制备方法及三维封装方法
申请号CN200710173095.7申请日期2007-12-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2009-07-01公开/公告号CN101471347
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;2;6;5;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;2;;;H;0;1;L;2;1;/;8;4;;;H;0;1;L;2;1;/;5;0;;;H;0;1;L;2;1;/;6;0查看分类表>
申请人上海新傲科技有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市嘉定区普惠路200号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海新傲科技股份有限公司,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司当前权利人上海新傲科技股份有限公司,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人王曦;肖德元;魏星
代理机构上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)代理人翟羽
摘要
本发明提供了一种半导体衬底,包括器件层、位于器件层下方的绝缘层,还包括位于绝缘层下方的支撑衬底和位于支撑衬底中的剥离层。本发明还提供了半导体衬底的制备方法以及利用此半导体衬底的三维封装方法。本发明的优点在于:可以降低被减薄的衬底的厚度,而且可以提高表面的平整度。

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