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形成光敏性薄膜并在基底上成象的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN90100094.9
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1990-01-09
  • 申请人:
    国际商用机械公司
著录项信息
专利名称形成光敏性薄膜并在基底上成象的方法
申请号CN90100094.9申请日期1990-01-09
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日1990-08-29公开/公告号CN1044995
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人国际商用机械公司申请人地址
美*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人国际商用机械公司当前权利人国际商用机械公司
发明人大卫·马克多布津斯基;马克·切尔斯哈克;斯替文;约翰;霍姆斯;大卫·瓦卡拉夫·霍尔克
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人王杰
摘要
一种在基底上形成含有聚硅烷组成的薄膜的方法。该膜通过直接蒸汽积附于基底之上而形成,这样,避免了借助传统的旋涂技术制备与应用聚硅烷时常见的繁锁步骤。该膜可用于石印法从而在基底上成象。

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