防止地下室在施工和使用阶段整体上浮的施工方法及施工结构发明专利
申请号：CN202110173117.X
LOC分类号:E02D31/12
IPC结构图谱：
- G物理
- G0仪器
- G02光学
- G02B光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕
- G02B6/22（转入G02B 6/036）
- G02B6/24光波导的耦合（电波导的耦合入H01P 1/00）〔4，5〕
- G02B6/36机械连接装置（G02B 6/255，G02B 6/42优先）〔4，5〕
- G02B6/38有纤维对纤维的匹配装置〔4〕
