一种钼钛合金溅射靶材板的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201410837219.7
IPC分类号：C23C14/35;B22F3/16
申请日期：
2014-12-29
申请人：
金堆城钼业股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种钼钛合金溅射靶材板的制备方法
申请号	CN201410837219.7	申请日期	2014-12-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-04-22	公开/公告号	CN104532201A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;B;2;2;F;3;/;1;6查看分类表>
申请人	金堆城钼业股份有限公司	申请人地址	陕西省西安市高新区锦业一路88号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	金堆城钼业股份有限公司	当前权利人	金堆城钼业股份有限公司
发明人	席莎;安耿;李晶;赵虎
代理机构	西安弘理专利事务所	代理人	罗笛

摘要

本发明公开了一种钼钛合金溅射靶材板的制备方法，将钼粉和钛粉装进三维混料机中，充入氩气，使两种粉末在氩气气氛中充分混合，得到钼钛合金粉末；将钼钛合金粉末放入模具中冷等静压得到预成形坯；将预成形坯抽真空后在氦气气氛下烧结，得到烧结毛坯，最后经过机加工后即得。本发明钼钛合金溅射靶材板的制备方法，采用传统粉末冶金方法，同时在烧结过程中抽真空并通入保护气氛氦气，使得制备得到的钼钛合金溅射靶材板，可以直接生产满足现需求的大尺寸溅射靶材，产品质量得到保证，且该方法成本较低，基本无废料，无污染，可以使钼钛合金溅射靶材板的成本显著降低。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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