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使用两件式盖子保护模版的系统和方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200710102349.6
IPC分类号：G03F7/20;G03F1/00;G03F1/14;G03F9/00
申请日期：
2003-02-21
申请人：
ASML控股股份有限公司

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权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	使用两件式盖子保护模版的系统和方法
申请号	CN200710102349.6	申请日期	2003-02-21
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2008-01-16	公开/公告号	CN101105637
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;1;4;;;G;0;3;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人	ASML控股股份有限公司	申请人地址	荷兰费尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML控股股份有限公司	当前权利人	ASML控股股份有限公司
发明人	圣地亚哥·E·德尔·普埃尔托;埃里克·R·卢普斯特拉;安德鲁·马萨尔;杜安·P·基什;阿卜杜拉·阿里汗;伍德罗·J·奥尔松;乔纳森·H·费罗斯
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王波波

摘要

一种使用两件式盖子保护模版的系统和方法，用于保护掩模不被空载的颗粒污染。它们包括提供一个固定在两件式盖子中的模版，该两件式盖子包括用于保护模版不受污染的可除去保护部分。该盖子可以保持在用于将盖子从大气部分向真空部分传送通过光刻系统的吊舱或盒子内。在真空部分，在晶片上形成模版上的图案的曝光过程中移动该可除去的盖子。

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