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专利名称 | 一种芍药无土栽培基质及其应用 |
申请号 | CN201310151484.5 | 申请日期 | 2013-04-27 |
法律状态 | 授权 | 申报国家 | 中国 |
公开/公告日 | 2013-09-18 | 公开/公告号 | CN103299888A |
优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
主分类号 | A01G31/00 | IPC分类号 | A;0;1;G;3;1;/;0;0查看分类表>
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申请人 | 北京林业大学 | 申请人地址 | 北京市海淀区清华东路35号
变更
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权利人 | 北京林业大学 | 当前权利人 | 北京林业大学 |
发明人 | 刘燕;黄国京;韩婧;贾清华;孙晓梅;吴婷 |
代理机构 | 北京瑞思知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 王加岭;张志德 |
摘要
本发明公开了一种芍药无土栽培基质,包括以下体积比的成分:酒糟3-6、蛭石2-3和珍珠岩2-3,用所述栽培基质栽培芍药,在整个生长过程中不需施用任何形式的肥料。相比草炭混合基质,该发明筛选基质成本降低32%,仅为163.2元/m2。栽培的植株成品率较前者高出20%,平均株高高出3cm,平均每盆多开1-2朵花,单盆花期长3-4天,群体花期长6天。本发明的基质可以极大减少了草炭的使用,进一步降低了生产成本,也简化了栽培养护的步骤。
1.一种芍药品种‘桃花飞雪’的无土栽培基质,其包括以下体积比的成分:酒糟5、蛭石3和珍珠岩2,用所述栽培基质栽培芍药,在整个生长过程中不需施用任何形式的肥料,其中,所述酒糟为稻壳酒糟,粒径为5-20mm,所述蛭石粒径为1-3mm,所述珍珠岩粒径为
3
2-4mm,栽种时所述基质配方容重为0.28g/cm,总孔隙度为62%,大小孔隙比为0.4,pH为
7.2,电导率为0.92mS/cm,阳离子交换量为53.3cmol/kg,有机质含量为439g/kg,碱解氮为
682mg/kg,速效磷为285mg/kg,速效钾为720mg/kg。
2.一种利用权利要求1所述的栽培基质进行芍药‘桃花飞雪’栽培的方法,其包括如下步骤:
1)按所述的体积比将酒糟、蛭石和珍珠岩进行混合,混合时喷施600-1000倍70%的代森锰锌进行化学消毒,混合后用塑料薄膜覆盖,晴天下堆放5-7天进行高温消毒;
2)用步骤1)配制的基质盆栽芍药,栽种时在盆底平铺3-5cm的陶粒,以利于根部透气,陶粒粒径为10-20mm。
一种芍药无土栽培基质及其应用\n技术领域\n[0001] 本发明属于植物栽培领域,具体设计一种芍药无土栽培基质及其应用。\n背景技术\n[0002] 芍药(Paeonia lactiflora)是我国传统名花之一,但目前芍药仍以大田地栽为主,只有春季开花,远不能满足市场需求,因此开展设施无土栽培研究对其产业化生产具有重要意义。栽培基质的筛选是设施无土栽培的关键,目前应用较广泛、效果相对理想的栽培基质是草炭,但因草炭的分布不均、不可再生等限制因素,迫使人们致力于新栽培基质的研发。根据自身的资源状况,结合实用性和经济性,选用有机废弃物来代替草炭作为栽培基质成为我国近年来的一个重点发展方向。\n[0003] 近年来研究者利用玉米秸秆、菇渣、炉渣、锯末、花生壳、棉籽皮等有机废弃物进行了芍药栽培,实现了草炭的部分替代或完全替代,但从目前试验数据来看,栽培效果均不够理想,开花率、花径等指标均较低,且不同芍药品种所适宜的基质有一定差异。此外,玉米秸秆、棉籽皮、花生壳等降解速度较快,对基质透气性影响较大,而芍药肉质根需较好的透气性,否则容易导致烂根,继而影响地上部分的生长。菇渣、棉籽皮基质栽培的芍药叶片失绿发黄,对观赏有一定的影响。因此,需结合芍药品种特性,进一步寻找更为适合芍药的替代基质材料。\n[0004] 随着白酒消费能力的增长以及车用燃料乙醇的推广使用,乙醇的年产量逐渐提升。作为乙醇生产的副产物——稻壳酒糟的产量也越来越大。我国年产白酒酒糟达2100万吨,酒糟中不仅含有丰富的蛋白质、磷钾等无机元素及戊糖、总糖和脂肪等成分,还可能存在由微生物菌体产生的核糖核酸及嘌呤等微量有益成分。因此,酒糟的综合利用对资源开发和环境保护具有十分重要的意义。目前酒糟多作为动物饲料和生物有机肥使用,近年来园艺工作者开始利用酒糟作为栽培基质使用,已先后应用于食用菌、高粱、棉花、莴笋、豆角、紫花苜蓿等作物,栽培效果良好。但是有关酒糟作为花卉栽培基质的研究未见报道。因此,结合芍药自身特点,开发使用酒糟作为芍药栽陪基质,既可以减少草炭的开发利用,保护环境,降低生产成本,又可以使有机废弃物酒糟得到资源循环利用。\n发明内容\n[0005] 为了解决上述问题,本发明提供一种芍药无土栽培基质。\n[0006] 本发明芍药无土栽培基质,包括以下体积比的成分酒糟3-6、蛭石2-3和珍珠岩\n2-3,优选的体积比成分为酒糟5、蛭石3和珍珠岩2,用所述栽培基质栽培芍药,在整个生长过程中不需施用任何形式的肥料。\n[0007] 其中,所述酒糟为稻壳酒糟,粒径为5-20mm,蛭石粒径为1-3mm,珍珠岩粒径为\n2-4mm。\n[0008] 其中,栽种时所述基质的容重为0.28g/cm3,总孔隙度为62%,大小孔隙比为0.4,pH为7.2,电导率为0.92mS/cm,阳离子交换量为53.3cmol/kg,有机质含量为439g/kg,碱解氮为682mg/kg,速效磷为285mg/kg,速效钾为720mg/kg。\n[0009] 在本发明一个具体的实施方案中,所述的芍药品种为‘桃花飞雪’。\n[0010] 本发明还提供一种利用所述的栽培基质进行芍药栽培的方法,其包括如下步骤:\n[0011] 1)按所述的体积比将酒糟、蛭石和珍珠岩进行混合,混合时喷施600-1000倍70%的代森锰锌进行化学消毒,混合后用塑料薄膜覆盖,晴天下堆放5-7天进行高温消毒;\n[0012] 2)栽种时在盆底平铺3-5cm的陶粒,以利于根部透气,陶粒粒径为10-20mm。\n[0013] 相比草炭混合基质,该发明筛选基质成本降低32%,仅为163.2元/m2。栽培的植株成品率较前者高出20%,平均株高高出3cm,平均每盆多开1-2朵花,单盆花期长3-4天,群体花期长6天。利用稻壳酒糟配制成栽培基质用于芍药的生产,不仅极大减少了草炭的使用,而且有效利用了酒糟资源,同时栽培过程中无需施用任何肥料,进一步降低了生产成本,也简化了栽培养护的步骤。此外,酒糟资源来源广泛,量大且集中,为本发明进一步推广应用奠定了基础。\n[0014] 采用本发明的基质进行芍药‘桃花飞雪’的无土栽培,可实现整体成品率达100%,株高为63-81cm,冠幅为60-66cm,每盆开花1-5朵(平均3.3朵),花径12-16cm,单朵花期\n6-9天,单盆花期平均达11天,群体花期(15盆)长达18天,花色和花型正常,花色和花型正常的栽培效果。\n具体实施方式\n[0015] 以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。\n[0016] 实施例1芍药栽培替代基质筛选\n[0017] 选用了花生壳、玉米秸秆、棉籽皮、菇渣、锯末、树皮、木屑、酒糟8种有机废弃物与蛭石、珍珠岩作为芍药栽培基质的原材料,将其配成10种混合基质(见表1)。对10种混合基质的理化性质进行测定,结果显示,A、G、I三个基质的大小孔隙比分别为0.21、0.24、0.19,透气性较差,不能满足芍药肉质根的透气性;D、G两个基质pH偏酸,分别为5.68和6.21,不在芍药栽培基质的适宜范围之内;E基质的总孔隙度仅为65.9%,不符合栽培基质的适宜范围之内。\n[0018] 因此,结合上述结果,从10种配方中筛选出4种配方进行栽培试验,4种配方分别为B:酒糟5、蛭石3、珍珠岩2;C:花生壳5、蛭石3、珍珠岩2;F:玉米秸秆3、菇渣4、锯末3;\nJ:棉籽皮4、蛭石3、珍珠岩3。选用的芍药品种为“桃花飞雪”。\n[0019] 表110种复配基质\n[0020] \n[0021] 2010年9月22日,将芍药盆栽用基质按B、C、F、J四种配比均匀混合,基质混合过程中同时喷洒1000倍70%的代森锰锌对基质进行消毒。将混合好的基质堆放于室外开阔处,用塑料薄膜覆盖,放置5天进行日光高温消毒。\n[0022] 2010年9月27日,将‘桃花飞雪’种苗(平均每株含芽4-6个)栽种于混合好的基质中,盆上口径28cm,高30cm,盆底平铺3-5cm的陶粒层。并于栽种后浇1次透水,整齐摆放于通风、开阔的室外空地,之后保持基质湿润即可。\n[0023] 2010年12月23日,将盆栽的芍药‘桃花飞雪’移入温室,温室不加温,保持在0℃(±4℃),移入温室后浇一遍透水。\n[0024] 2011年2月20日温室开始加温,夜温控制在10~15℃,日温控制在20-28℃。温室内湿度保持在50%左右。芍药植株萌芽后进行常规管理,B、F、J三种基质整个生长过程中不施用任何形式的肥料,C基质中一半植株整个生长过程中不施用任何形式的肥料,一半植株于植株萌芽期、茎伸长期、茎叶生长期、育蕾期和花前期各施用一次“花多多”牌复合肥(m(N):m(P):m(K):为20:20:20,施用浓度为0.9g/L,施用量为1L/盆),花后期施用三次。\n[0025] 栽植一年(2011年)后,C、F、J三种基质高度均有不同程度的下降,通过监测基质理化性质可知,三种基质容重逐渐增大,总孔隙度略有降低,大小孔隙比逐渐减小,一定程度上影响了芍药根系的生长。而B基质各项指标均比较稳定,仅总孔隙度略有下降。2012年9月取各基质中植株测定其生物量,B基质中根系干重显著高于其他基质,根系干重从高到低分别为B(311.6kg)>J(257.3kg)>F(221.8kg)>C(180.5kg)。\n[0026] B基质中植株成品率达100%,株高为62-82cm,冠幅为60-65cm,每盆开花1-5朵(平均3朵),花径12-15cm,单朵花期6-10天,单盆花期平均达10天,群体花期(15盆)长达\n18天,花色和花型正常。\n[0027] C基质不施肥时植株成品率为70%,株高为45-81cm,冠幅为50-61cm,每盆开花0-5朵(平均1.4朵),花径11-16cm,单朵花期6-9天,单盆花期平均达9天,群体花期(15盆)长\n10天,花色和花型正常。B基质施肥时成品率为78%,株高为56-73cm,冠幅为58-62cm,每盆开花0-4朵(平均2朵),花径12-16cm,单朵花期6-10天,单盆花期平均10天,群体花期(15盆)长17天,花色和花型正常。\n[0028] F基质中植株成品率为50%,株高为42-70cm,冠幅为45-53cm,每盆开花0-3朵(平均1.4朵),花径11-14cm,单朵花期5-8天,单盆花期平均9天,群体花期(15盆)长15天,植株矮小,花色和花型正常。\n[0029] J基质中植株成品率为68%,株高为50-65cm,冠幅为50-57cm,每盆开花0-3朵(平均1.7朵),花径12-14cm,单朵花期5-9天,单盆花期平均10天,群体花期(15盆)长16天,植株叶色失绿发黄,花色和花型正常。\n[0030] 综上所述,4种基质均能使植株正常生长,但C、F、J三种基质的成花效果均不及B基质,且C基质即使施肥后效果亦不如B基质。\n[0031] 实施例2\n[0032] 对基质配方(酒糟5、蛭石3、珍珠岩2)的各项化学指标及速效养分含量进行测定,并与草炭基质(草炭3、蛭石1、珍珠岩1)进行对比分析。\n[0033] pH的测定:称取风干基质10g,放入150ml烧杯中,加50ml水,用磁力搅拌器搅拌\n1min,放置0.5h后用酸度计测定。\n[0034] 电导率(EC)的测定:称取基质10g,放入250ml三角瓶中,加50ml水,盖好瓶塞,振荡3min,静置澄清后用电导仪测定。\n[0035] 阳离子交换量(CEC)的测定:采用乙酸铵交换法测定\n[0036] 碱解氮的测定:采用碱解扩散法\n[0037] 速效磷的测定:采用NaHCO3浸提钼锑抗比色法。\n[0038] 速效钾的测定:采用NH4OAc浸提火焰光度法。\n[0039] 有机质:采用重铬酸钾溶液法测定。\n[0040] 单独酒糟基质pH为6.5,电导率为1.44mS/cm,阳离子交换量为77.9cmol/kg,有机质含量为435mg/g,碱解氮为1510mg/g,速效磷为604mg/g,速效钾为1390mg/g,混合后的基\n3\n质配方容重为0.28g/cm,总孔隙度为62%,大小孔隙比为0.4,pH为7.2,电导率为0.92mS/cm,阳离子交换量为53.3cmol/kg,有机质含量为439g/kg,碱解氮为682mg/kg,速效磷为\n3\n285mg/kg,速效钾为720mg/kg。而草炭混合基质容重为0.43g/cm,总孔隙度为80%,大小孔隙比为0.7,pH为6.9,电导率为0.46mS/cm,阳离子交换量为27.1cmol/kg,有机质含量为\n85g/kg,碱解氮为136mg/kg,速效磷为20mg/kg,速效钾为105mg/kg。\n[0041] 该发明筛选基质容重显著低于草炭混合基质,电导率、阳离子交换量及速效养分显著高于草炭混合基质。草炭混合基质在植株生长过程中需施用8次营养液(母液为日本水稻栽培营养液配方,改动其中氮磷钾的含量为氮300mg/L,磷80mg/L,钾120mg/L),而该发明筛选基质栽培过程中无需施用任何肥料。\n[0042] 实施例3\n[0043] 2011年9月,将筛选出的基质配方(酒糟5、蛭石3、珍珠岩2)与草炭基质(草炭3、蛭石1、珍珠岩1)进行盆栽试验,栽培及管理方法同实施例1。筛选基质整个生长过程中不施用任何形式的肥料,草炭基质于植株萌芽期、茎伸长期、茎叶生长期、育蕾期和花前期各施用一次营养液,花后期施用三次营养液,营养液母液为日本水稻栽培营养液配方,改动其中氮磷钾的含量为氮300mg/L,磷80mg/L,钾120mg/L。\n[0044] 2012年筛选基质中植株成品率达100%,株高为63-81cm,冠幅为60-66cm,每盆开花1-5朵(平均3.3朵),花径12-16cm,单朵花期6-9天,单盆花期平均达11天,群体花期
法律信息
- 2015-09-23
- 2013-10-23
实质审查的生效
IPC(主分类): A01G 31/00
专利申请号: 201310151484.5
申请日: 2013.04.27
- 2013-09-18
引用专利(该专利引用了哪些专利)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 |
1
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2013-04-10
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2012-12-31
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2
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2013-02-06
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2012-10-13
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3
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2009-05-20
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2007-11-16
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4
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2011-06-29
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2009-12-23
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被引用专利(该专利被哪些专利引用)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有被任何外部专利所引用! |