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具有保护层结构的碳层材料的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201210465620.3
  • IPC分类号:C23C14/12
  • 申请日期:
    2011-10-23
  • 申请人:
    常州碳元科技发展有限公司
著录项信息
专利名称具有保护层结构的碳层材料的制备方法
申请号CN201210465620.3申请日期2011-10-23
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2013-02-13公开/公告号CN102925857A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/12IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;1;2查看分类表>
申请人常州碳元科技发展有限公司申请人地址
江苏省常州市武进经济开发区腾龙路2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人碳元科技股份有限公司当前权利人碳元科技股份有限公司
发明人马宇尘
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明提供一种具有保护层结构的碳层材料的制备方法,属于碳材料技术领域。该方法包括有如下步骤:针对于需要进行聚合物气相沉积的碳层材料,在其上选取两个或者两个以上的待接触点;随着聚合物气相沉积操作的进行,变换这两个或两个以上待接触点的掩盖状况,使其不在同一时间内同时掩盖碳层材料;聚合物气相沉积镀膜的厚度选择在0.05-15微米之间,在进行的聚合物气相沉积的镀膜操作后,完成针对于碳层材料的全面镀膜操作。利用本发明,在碳层材料外围通过聚合物气相沉积的方式生成镀膜,来将现有的碳层材料的保护层的厚度大幅度降低,从而有效提升碳层材料应用于导热目的情况下的散热效率,以及应用于其它需要在碳层材料上设置保护层的场合。

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