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微光刻投射曝光设备的照明系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200880003524.9
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2008-01-30
  • 申请人:
    卡尔蔡司SMT股份公司
著录项信息
专利名称微光刻投射曝光设备的照明系统
申请号CN200880003524.9申请日期2008-01-30
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-01-27公开/公告号CN101636695
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人卡尔蔡司SMT股份公司申请人地址
德国上科亨 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司当前权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人尼尔斯·迪克曼;曼弗雷德·莫尔;克里斯琴·赫蒂奇;奥利弗·纳特
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人邱军
摘要
一种微光刻投射曝光设备的照明系统,包括至少一个透射滤波器(66;166;266;366;466;566;666;666’;766,766’;866,866’),其在至少两个位置处具有不同的透射率以及其布置于光瞳平面(42,60)与场平面(52、58)之间。确定所述透射率分布,使得其对椭圆率具有场依赖性的校正效应。在某些实施例中,远心性和/或辐照均匀性不被该校正影响。

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