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基于注氧技术的十字狭缝波导的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200910154972.5
  • IPC分类号:G02B6/13
  • 申请日期:
    2009-12-07
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称基于注氧技术的十字狭缝波导的制备方法
申请号CN200910154972.5申请日期2009-12-07
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-06-02公开/公告号CN101718890A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B6/13IPC分类号G;0;2;B;6;/;1;3查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区浙大路38号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江大学当前权利人浙江大学
发明人王皖君;魏玉欣;赵勇;杨建义;郝寅雷;周强;王明华;江晓清
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人林怀禹
摘要
本发明公开了一种基于注氧技术的十字狭缝波导的制备方法,包括以下步骤:在绝缘体上硅片的顶层硅上形成第一SiO2层后使第一SiO2层的两侧被去除;将绝缘体上硅片的没有第一SiO2层保护的那部分顶层硅去除;将第一SiO2层的中段区域被去除;在顶层硅的内部氧化制作出一层第二SiO2层;在绝缘体上硅片的表面涂上一层光刻胶以保护绝缘体上硅片的绝缘层,再去除第二SiO2层,以使顶层硅的内部形成水平狭缝;除去保护绝缘层的光刻胶,在顶层硅上制作一层第三SiO2层,使第三SiO2层的中间区域被去除;在顶层硅的内部形成垂直狭缝;去除第三SiO2层的剩余的两侧区域,得到十字狭缝波导。本发明工艺简单可靠、稳定性高,无需偏振转换器和分离器,即可直接应用于光回路中。

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