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光电墨水及其制备方法和应用方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710224435.8
  • IPC分类号:C09D11/033;C09D11/03;C09D11/30;C09D11/102
  • 申请日期:
    2017-04-07
  • 申请人:
    中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
著录项信息
专利名称光电墨水及其制备方法和应用方法
申请号CN201710224435.8申请日期2017-04-07
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2018-10-23公开/公告号CN108690397A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09D11/033IPC分类号C;0;9;D;1;1;/;0;3;3;;;C;0;9;D;1;1;/;0;3;;;C;0;9;D;1;1;/;3;0;;;C;0;9;D;1;1;/;1;0;2查看分类表>
申请人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所申请人地址
江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所当前权利人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
发明人张东煜;苏文明;崔铮
代理机构深圳市铭粤知识产权代理有限公司代理人孙伟峰
摘要
本发明公开了一种光电墨水,包括光电材料和以超临界流体为材料的溶剂。本发明还公开了上述光电墨水的制备方法以及其在印刷电子领域的应用方法。根据本发明的光电墨水以超临界流体作为溶剂,以使其在使用过程中,可简单借助于压力变化或压力和温度的双重变化而自行由超临界流体态转变为气态而完全挥发,相对于现有技术中所采用的溶剂,保证了最终形成的光电功能层中午溶剂残留,提高了光电功能层的纯化程度,避免了残留的溶剂对光电性能带来的不利影响,有利于印刷电子器件性能的提高。与此同时,根据本发明的光电墨水中的溶剂优选为超临界二氧化碳、超临界水等无污染绿色的物质,也避免了在使用过程中挥发所带来的环境污染等问题。

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