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一种超声雾化热解沉积装置及利用该装置制备薄膜的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810186855.6
  • IPC分类号:C23C16/448;C23C16/455
  • 申请日期:
    2018-03-07
  • 申请人:
    北京环境特性研究所;北京遥感设备研究所
著录项信息
专利名称一种超声雾化热解沉积装置及利用该装置制备薄膜的方法
申请号CN201810186855.6申请日期2018-03-07
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-08-10公开/公告号CN108385089A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/448IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;4;4;8;;;C;2;3;C;1;6;/;4;5;5查看分类表>
申请人北京环境特性研究所;北京遥感设备研究所申请人地址
北京市海淀区永定路50号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京环境特性研究所,北京遥感设备研究所当前权利人北京环境特性研究所,北京遥感设备研究所
发明人王肖珩;周翔;张尚;张广;陈大鹏;温梓彤
代理机构北京格允知识产权代理有限公司代理人周娇娇;张沫
摘要
本发明涉及超声雾化热解沉积装置及利用该装置制备薄膜的方法。该装置包括气相生长剂产生室和热解沉积薄膜生长室;气相生长剂产生室包括雾化箱,雾化瓶,超声雾化振荡器,载气进气管和载气出气管,并且载气进气管和载气出气管在雾化瓶内的管口的位置在高度方向上相对于彼此可调;超声雾化振荡器固定在雾化箱内;雾化瓶置于超声雾化振荡器的上;热解沉积薄膜生长室包括锥形生长仓和控温加热装置,在其仓腔底部设置有薄膜生长衬底,在仓腔内靠近顶部的位置设置有整流装置。利用该装置和方法可制得透明、厚度均匀的薄膜,并且所用生长源价格低、工艺简单、制备周期短。

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