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一种光刻机成像质量测量方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710170916.1
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2007-11-23
  • 申请人:
    上海微电子装备有限公司
著录项信息
专利名称一种光刻机成像质量测量方法
申请号CN200710170916.1申请日期2007-11-23
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2008-04-30公开/公告号CN101169594
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海微电子装备有限公司申请人地址
上海市张江高科技园区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人李术新;王帆
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人屈蘅;李时云
摘要
一种光刻机成像质量测量方法,包含以下步骤:在光刻机n个离焦量下将掩模上均匀分布的DFOCAL标记图案曝光到硅片上,形成n个曝光场;利用对准系统对n个曝光场进行等间隔抽样测量,得到n/m个场内各标记对准位置;利用标记成像水平位置的偏差与硅片离焦量之间的变化规律计算曝光场内各个DFOCAL标记点的最佳焦点大致位置;测量距离曝光场内各个DFOCAL标记点最佳焦点大致位置最近的n/m个场内对应的DFOCAL标记对准位置;精确拟合出每个DFOCAL标记点的最佳焦点位置;计算轴向像质参数。本发明方法利用DFOCAL标记能对用于评价光刻机成像质量的轴向像质参数进行高精度、大范围、快速的测量。

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