加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

用于形成电阻器和电容器的多层构造

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200680005749.9
  • IPC分类号:H01G4/08;H01C1/12
  • 申请日期:
    2006-02-15
  • 申请人:
    奥克-三井有限公司;奥美加科技公司
著录项信息
专利名称用于形成电阻器和电容器的多层构造
申请号CN200680005749.9申请日期2006-02-15
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2008-06-04公开/公告号CN101194326
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01G4/08IPC分类号H;0;1;G;4;/;0;8;;;H;0;1;C;1;/;1;2查看分类表>
申请人奥克-三井有限公司;奥美加科技公司申请人地址
日本东京都品川区大崎1丁目11番1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人奥美加科技公司,三井金属矿业株式会社当前权利人奥美加科技公司,三井金属矿业株式会社
发明人J·A·安德雷萨基斯;P·K·普拉马尼克;B·马勒;D·布兰德勒
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人刘锴;韦欣华
摘要
本发明涉及可用于形成电阻器和电容器的多层结构,用于印刷电路板或其它微电子装置的生产。所述多层结构包括顺序附着的层,包含:第一导电层、第一热固性聚合物层、耐热的薄膜层、第二热固性聚合物层、以及电镀到第二导电层层上的镍-磷电阻材料层。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供