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具有增强的绝缘结构的场效应晶体管

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200480036193.0
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2004-12-06
  • 申请人:
    国际整流器公司
著录项信息
专利名称具有增强的绝缘结构的场效应晶体管
申请号CN200480036193.0申请日期2004-12-06
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2008-11-05公开/公告号CN101300669
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人国际整流器公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英飞凌科技美洲公司当前权利人英飞凌科技美洲公司
发明人罗伯特·彼迟
代理机构北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司代理人余朦;方挺
摘要
基于III族-氮化物的场效应晶体管通过操纵材料层界面的面内晶格常数之间的关系获得了改善的性能特性。III族-氮化物材料界面产生的高迁移率二维电子气在低导通电阻下允许高电流导电,并且可通过操纵根据III族-氮化物的特性所获得的自发极化场进行控制。所制造的场效应晶体管可制成名义导通器件,其中材料的面内晶格常数形成界面匹配。材料层之一具有大于其它层材料的面内晶格常数时,可制造名义上截止的器件。层的材料优选为InAlGaN/GaN层,其显著适合本发明的特性。

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