低共熔型离子液体中镍基体原位硫化制备Ni3S2的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201810025102.7
IPC分类号：C23C22/02;C25B11/06;C25B1/04;H01G4/008
申请日期：
2018-01-11
申请人：
昆明理工大学

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专利名称	低共熔型离子液体中镍基体原位硫化制备Ni3S2的方法
申请号	CN201810025102.7	申请日期	2018-01-11
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-07-10	公开/公告号	CN108265283A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C22/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C22/00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化〔4，2006.01〕 C23C22/02 使用非水溶液的〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;2;2;/;0;2;;;C;2;5;B;1;1;/;0;6;;;C;2;5;B;1;/;0;4;;;H;0;1;G;4;/;0;0;8查看分类表>
申请人	昆明理工大学	申请人地址	云南省昆明市五华区学府路253号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	昆明理工大学	当前权利人	昆明理工大学
发明人	张启波;孙长彬
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开低共熔型离子液体中镍基体原位硫化制备Ni3S2的方法，属于能源材料制备技术领域，本发明将硫盐前驱体加入到低共熔型离子液体中，加热搅拌形成离子液体‑硫盐复合溶液，再将清洗过的镍基体直接浸泡在该低共熔型离子液体中，通过控制温度与时间，使镍基体进行原位硫化，最后将镍基体反复冲洗，在真空干燥箱中进行室温干燥后即可得到Ni3S2；本发明所制备的Ni3S2材料具有多功能，性能良好，稳定性好，价格低廉，工艺简单等优点。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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