一种阵列基板及其制作方法、显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201410505653.5
IPC分类号：G02F1/1362;G02F1/1337
申请日期：
2014-09-26
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司

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专利名称	一种阵列基板及其制作方法、显示装置
申请号	CN201410505653.5	申请日期	2014-09-26
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-01-14	公开/公告号	CN104280958A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1362 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕 G02F1/1362 有源矩阵寻址单元〔7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;7查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
发明人	董廷泽;王羽佳;莫骏;管培强;张志男
代理机构	北京中博世达专利商标代理有限公司	代理人	申健

摘要

本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决在Cell工艺中，产生的白Mura不良的问题。上述制作方法包括形成显示区域和非显示区域的方法。还包括：通过构图工艺，在显示区域形成取向膜的图案，并至少在非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案。然后，通过摩擦压印工艺，在取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列；其中，上述透明保护层的表面高度小于等于取向膜的表面高度。

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