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用于光刻校准的方法和系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200910212014.9
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2009-11-06
  • 申请人:
    睿初科技公司
著录项信息
专利名称用于光刻校准的方法和系统
申请号CN200910212014.9申请日期2009-11-06
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-06-16公开/公告号CN101738872A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人睿初科技公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人叶军;曹宇;冯函英
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王新华
摘要
本发明公开了一种用于光刻校准的方法和系统。一种有效的光学和抗蚀剂参数校准的方法,其基于模拟用来对具有多个特征的目标图案成像的光刻过程的图像性能。所述方法包括步骤:确定用于生成模拟图案的函数,其中所述函数表征与所述光刻过程相关的过程变化;和使用所述函数生成所述模拟图案,其中所述模拟图案表示用于所述光刻过程的所述目标图案的所述图像结果。用于光刻过程的校准的系统和方法,通过该系统和方法计算用于光学系统的名义配置的多项式拟合,该系统和方法可以用来估计其它配置的临界尺寸。

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