一种石墨烯薄膜的制备方法及石墨烯薄膜

发明专利有效专利

申请号：
CN201710715473.3
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/06;C01B32/19;C08G73/02
申请日期：
2017-08-20
申请人：
长沙小新新能源科技有限公司

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专利名称	一种石墨烯薄膜的制备方法及石墨烯薄膜
申请号	CN201710715473.3	申请日期	2017-08-20
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-01-05	公开/公告号	CN107541709A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;C;0;1;B;3;2;/;1;9;;;C;0;8;G;7;3;/;0;2查看分类表>
申请人	长沙小新新能源科技有限公司	申请人地址	江苏省无锡市锡山区鹅湖镇工业园区柏桥路88号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	世星科技股份有限公司	当前权利人	世星科技股份有限公司
发明人	不公告发明人
代理机构	北京成实知识产权代理有限公司	代理人	张焱

摘要

本发明涉及碳纳米材料技术领域，具体涉及一种石墨烯薄膜的制备方法及石墨烯薄膜；所述石墨烯薄膜的制备方法包括以下步骤：(1)将膨胀石墨与水混合后，放入液氮中，静置5～60min，得到石墨烯前驱体；(2)将石墨烯前驱体、表面活性剂、还原剂和金属盐在溶剂中混合均匀后得到混合体系，在微波中处理10～30min，得到石墨烯悬浮液；(3)采用高速离子注射法将石墨烯悬浮液涂覆在基底上，得到基片A；(4)采用PVD法在基片A上沉积石墨烯涂层；(5)除去基底，得到石墨烯薄膜前驱体；(6)将石墨烯薄膜与聚苯胺复合，得到石墨烯薄膜，通过该方法制备得到的石墨烯薄膜具有良好的导电性、致密度和柔性，在电极以及显示屏上具有广阔的应用前景。

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