电光外差探测式太赫兹波快速二维成像装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200810120799.2
IPC分类号：G01N21/88
申请日期：
2008-09-05
申请人：
中国计量学院

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法律信息

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著录项信息

专利名称	电光外差探测式太赫兹波快速二维成像装置
申请号	CN200810120799.2	申请日期	2008-09-05
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-01-28	公开/公告号	CN101354358
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/88 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/84 专用于特殊应用的系统〔3〕 G01N21/88 测试瑕疵、缺陷或污点的存在〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;8;8查看分类表>
申请人	中国计量学院	申请人地址	浙江省杭州市下沙高教园区学源街变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国计量学院	当前权利人	中国计量学院
发明人	李向军;何金龙;汪伟;洪治
代理机构	杭州求是专利事务所有限公司	代理人	张法高

摘要

本发明公开了一种电光外差探测式太赫兹波快速二维成象装置。整个成像装置主要包括高功率返波振荡器(BWO)、ZnTe电光晶体、锁模激光器、光敏二极管阵列以及高速锁相放大器。利用高输出功率BWO作为连续太赫兹辐射源，结合飞秒锁模激光器实现THz强度信号的电光外差探测；采用多面体转镜实现行扫描结合摆镜帧扫描实现图像的高速扫描；采用太赫兹扫描系统光轴与接收光轴分离，并结合扫描视场与接收视场同步技术，实现1帧/2秒的快速图像获取及40dB以上的高信噪比。该系统的优点是可克服THz辐射源输出的不稳定对系统测量的影响，成像速度快，工作稳定性高，动态范围大。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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