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采用多孔SOI硅硅键合的MEMS硅麦克风及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310056813.8
  • IPC分类号:H04R19/04;H04R31/00
  • 申请日期:
    2013-02-22
  • 申请人:
    上海微联传感科技有限公司
著录项信息
专利名称采用多孔SOI硅硅键合的MEMS硅麦克风及其制造方法
申请号CN201310056813.8申请日期2013-02-22
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2013-06-05公开/公告号CN103139691A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H04R19/04IPC分类号H;0;4;R;1;9;/;0;4;;;H;0;4;R;3;1;/;0;0查看分类表>
申请人上海微联传感科技有限公司申请人地址
江苏省无锡市新吴区菱湖大道200号F2栋 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华景科技无锡有限公司当前权利人华景科技无锡有限公司
发明人缪建民
代理机构上海浦东良风专利代理有限责任公司代理人陈志良
摘要
本发明为一种采用多孔SOI硅硅键合的MEMS硅麦克风及其制造方法,包括多孔背极板硅基及位于所述多孔背极板硅基上方的单晶硅振膜,其特征在于:所述的多孔背极板硅基和单晶硅振膜作为麦克风电容的两极板,经过硅硅键合工艺键合成一体。多孔背极板硅基上设有背极板金属电极、声孔和背腔,单晶硅振膜上设有金属电极和小凸柱,振膜金属电极和背极板电极分别为麦克风电容两极板的输出信号引出端,用来与CMOS信号放大电路实现电连接;单晶硅振膜由氧化硅层支撑悬于多孔背极板硅基的上方,单晶硅振膜和多孔背极板硅基之间设有气隙,多孔背极板硅基、单晶硅振膜和气隙形成电容结构。本发明工艺简单,产品灵敏度高、一致性好且生产良率高。

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