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涂布剂、使用该涂布剂的光半导体元件搭载用基板及光半导体装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201210364195.9
  • IPC分类号:C09D163/00;C09D7/12;H01L33/60;H05K3/28
  • 申请日期:
    2009-09-25
  • 申请人:
    日立化成工业株式会社
著录项信息
专利名称涂布剂、使用该涂布剂的光半导体元件搭载用基板及光半导体装置
申请号CN201210364195.9申请日期2009-09-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2013-01-09公开/公告号CN102863872A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09D163/00IPC分类号C;0;9;D;1;6;3;/;0;0;;;C;0;9;D;7;/;1;2;;;H;0;1;L;3;3;/;6;0;;;H;0;5;K;3;/;2;8查看分类表>
申请人日立化成工业株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日立化成株式会社当前权利人日立化成株式会社
发明人浦崎直之;小谷勇人
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人蒋亭
摘要
本发明的涂布剂,其是用于光半导体元件搭载用基板的涂布剂,含有热固化性树脂和白色颜料,所述白色颜料为氧化钛。

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