首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

提升外延薄膜层均匀性和良率的石墨盘

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202022094651.5
IPC分类号：C30B25/10;C30B29/40;C30B29/48
申请日期：
2020-09-22
申请人：
苏州尚勤光电科技有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	提升外延薄膜层均匀性和良率的石墨盘
申请号	CN202022094651.5	申请日期	2020-09-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C30B25/10 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C30 晶体生长〔3〕 C30B 单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置〔3〕 C30B25/00 反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长〔3〕 C30B25/02 外延层生长〔3〕 C30B25/10 反应室或衬底的加热〔3〕	IPC分类号	C;3;0;B;2;5;/;1;0;;;C;3;0;B;2;9;/;4;0;;;C;3;0;B;2;9;/;4;8查看分类表>
申请人	苏州尚勤光电科技有限公司	申请人地址	江苏省苏州市苏州工业园区唯新路91号2号楼236室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	苏州尚勤光电科技有限公司	当前权利人	苏州尚勤光电科技有限公司
发明人	兰鹏国
代理机构	无锡市汇诚永信专利代理事务所（普通合伙）	代理人	顾品荧

摘要

本实用新型公开了一种提升外延薄膜层均匀性和良率的石墨盘，包括盘体，所述盘体上设置有多个凹坑，多个所述凹坑以盘体的中心为圆心绕其均匀设置，所述凹坑底面沿边缘设置有多个支点，所述凹坑底面设置有圆弧面，有效提升外延薄膜层均匀性和良率。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供