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影响磁性颗粒的方法和设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200480009986.3
  • IPC分类号:A61N2/02;A61N1/40
  • 申请日期:
    2004-04-15
  • 申请人:
    皇家飞利浦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称影响磁性颗粒的方法和设备
申请号CN200480009986.3申请日期2004-04-15
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2006-05-17公开/公告号CN1774280
优先权暂无优先权号暂无
主分类号A61N2/02IPC分类号A;6;1;N;2;/;0;2;;;A;6;1;N;1;/;4;0查看分类表>
申请人皇家飞利浦电子股份有限公司申请人地址
荷兰艾恩德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人皇家飞利浦电子股份有限公司当前权利人皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人B·格莱奇;J·维泽内克
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人刘红;陈景峻
摘要
本发明涉及用于影响作用区域内磁性颗粒的方法和设备。借助具有磁场产生工具的装置,产生一空间不均匀的磁场,该磁场具有至少一个区域(301),颗粒的磁化在该区域中处于未饱和状态,而在其余区域中处于饱和状态。通过在该作用区域内平移所述区域,产生磁化的变化,该变化可以从外部探测到并提供关于该作用区域内磁性颗粒空间分布的信息。备选地,可以频繁地重复该平移,使得该作用区域加热升温。为了改善该作用区域的可接近性,所述区域位于具有磁场产生工具的装置的外部。

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