蒸发源及蒸镀设备

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201721643442.3
IPC分类号：C23C14/24;C23C14/54
申请日期：
2017-11-30
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

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著录项信息

专利名称	蒸发源及蒸镀设备
申请号	CN201721643442.3	申请日期	2017-11-30
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人	赵子仪;张金中;黄俊杰;裴凤巍
代理机构	北京银龙知识产权代理有限公司	代理人	许静;刘伟

摘要

本实用新型提供了一种蒸发源及蒸镀设备，该蒸发源包括：坩埚，所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔，且所述容置腔包括多个蒸镀区；加热单元，用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，设置于所述坩埚上；检测部件，用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态，设置在所述坩埚上，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；用于对各蒸镀区的蒸镀温度进行调节的调温部件，设置在所述坩埚上；以及，用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的蒸镀状态，控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节的控制单元，所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。本实用新型能够实时监控坩埚内蒸镀状态，实现膜厚均一性可控的目的。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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