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一种具有新型屏蔽体的铁氧体移相器

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201320772858.0
  • IPC分类号:H01P1/19;H01P1/00
  • 申请日期:
    2013-11-28
  • 申请人:
    中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所
著录项信息
专利名称一种具有新型屏蔽体的铁氧体移相器
申请号CN201320772858.0申请日期2013-11-28
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01P1/19IPC分类号H;0;1;P;1;/;1;9;;;H;0;1;P;1;/;0;0查看分类表>
申请人中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所申请人地址
江苏省无锡市梁溪路108号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所当前权利人中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所
发明人夏苏萍;麻磊;林杰
代理机构中国航空专利中心代理人杜永保
摘要
本实用新型属于微波器件技术,涉及一种具有新型屏蔽体的铁氧体移相器,包括铁氧体移相器,还包括屏蔽体,屏蔽体粘接在铁氧体移相器腔体上,在屏蔽体为两层。复合屏蔽体的使用,大大提高了铁氧体移相器自身的抗干扰能力,在面阵上工作时,干扰由最初的几十度,控制到6度以内;在屏蔽体外层莫合金材料的使用,利用磁场分流让屏蔽作用更加彻底,又避免移相器相移量因为分流而引起的相移量锐减的现象,提高器件实用性;因为材料的有效选择,不用过多考虑材料厚度,只需满足材料加工强度要求即可。在一定程度上减轻了移相器整体重量。

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