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用于控制晶圆均匀性的设备

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201810672211.8
  • IPC分类号:H01L21/67
  • 申请日期:
    2018-06-26
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称用于控制晶圆均匀性的设备
申请号CN201810672211.8申请日期2018-06-26
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2019-06-04公开/公告号CN109841537A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/67IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人彭筱华;岑翰儒
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人徐金国
摘要
在此揭示一种用于控制晶圆均匀性的设备。在一实施例中,此设备包括多个温度处理元件及处理器。每一个温度处理元件个别对应于晶圆的一不同部分,使得此多个温度处理元件是对应于晶圆的不同部分。每一个温度处理元件配置为单独地控制晶圆的对应部分的温度。处理器判定晶圆的至少一部分以进行温度均匀性控制,并指示对应于晶圆的此至少一部分的至少一个温度处理元件,以调整晶圆的此至少一部分的温度,从而控制晶圆的温度均匀性。

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