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等离子体发生装置和工件处理装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200710002873.6
IPC分类号：H05H1/46;H01L21/302
申请日期：
2007-02-08
申请人：
诺日士钢机株式会社

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	等离子体发生装置和工件处理装置
申请号	CN200710002873.6	申请日期	2007-02-08
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-08-29	公开/公告号	CN101026920
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05H1/46 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05H 等离子体技术（离子束管入H01J 27/00；磁流体发电机入H02K 44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G 2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速（原子钟入G04F 5/14；受激发射器件入H01S；通过与由分子、原子或亚原子粒子的能级所确定的基准频率相比较而进行频率调整的入H03L 7/26） H05H1/00 等离子体的产生；等离子体的处理（等离子体技术在热核聚变反应器的应用入G21B 1/00） H05H1/24 等离子体的产生〔2〕 H05H1/46 应用外加电磁场的，例如高频能或微波能（H05H 1/26优先）〔3〕	IPC分类号	H;0;5;H;1;/;4;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;2查看分类表>
申请人	诺日士钢机株式会社	申请人地址	日本和歌山县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	赛安株式会社	当前权利人	赛安株式会社
发明人	吉田和弘;岩崎龙一;万川宏史
代理机构	北京信慧永光知识产权代理有限责任公司	代理人	武玉琴;张友文

摘要

本发明提供一种等离子体发生装置以及使用该等离子体发生装置的工件处理装置。所述等离子体发生装置包括：装置主体，具有微波发生部以及等离子体发生喷嘴，该微波发生部产生微波，该喷嘴基于所述微波的能量产生并喷出等离子体化的气体；微波接收部，接收从所述装置主体泄漏的微波；以及控制部，一旦用所述接收部接收到微波，就使所述微波发生部停止产生微波。

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